当前全球集成电路产业已进入后摩尔时代，技术变革与范式迭代持续加速，技术路线图作为产业创新的路标与罗盘，其战略引领与方向锚定作用愈发凸显。与此同时，中美科技博弈不断升级，我国在集成电路核心设备、关键材料、设计工具等环节仍存在明显短板与外部制约，产业链安全面临严峻挑战，既难以沿用传统跟随策略，也无法直接对标、照搬国际主流技术路径，更难以依托全球通用技术路线图来规划与预判自主可控的技术演进方向。在此背景下，我国迫切需要建立独立自主的技术路线图制定机制，构建体系化、全链条、前瞻性的技术路线图编制与实施规划，以此统筹创新资源、明确攻关重点、稳定产业预期、支撑产业链供应链安全，走出适配自身基础与发展需求的特色技术路径。我们在《后摩尔时代全球集成电路技术路线图研究、趋势研判及我国应对建议（上）》中对全球集成电路领域主流技术路线图关键方向进行梳理并作出一定的趋势研判，本文将对全球主流集成电路技术路线图的参与主体、组织方式和主要特点进行分析，并对我国在后摩尔时代开展自主集成电路技术路线图的制定提出思考和建议。

一、全球主流集成电路技术路线图的参与主体、组织方式和主要特点

集成电路领域主流技术路线图（如美国IEEE的IRDS、欧洲IMEC和NEREID路线图、韩国半导体技术路线图等）的编制，核心遵循国际协作/区域主导、产学研用协同、矩阵式专家组织、迭代更新机制的制定逻辑。

（一）参与主体

集成电路领域主流技术路线图均由权威行业组织、政府部门或顶尖科研机构牵头主导，广泛吸纳全球或区域内的顶尖高校与专业科研院所提供基础研究支撑与理论技术研判，依托其在材料科学、器件物理、工艺创新等领域的深厚积累，为路线图的技术方向、演进节点提供科学依据；同时深度联动产业链上下游的头部企业，全面覆盖芯片设计、晶圆制造、设备及零部件、材料、封测等全链条环节，吸纳企业的产业实践经验、量产技术数据与市场应用需求作为核心编制依据，确保路线图不脱离产业实际、具备可落地性。通过政府、行业组织、科研机构、高校与企业的多方协同参与，共同保障路线图的科学性、前瞻性与产业落地可行性。

（二）组织架构

在组织架构层面，全球主流半导体技术路线图普遍采用决策层定调方向、执行层落地实施、协调层强化保障的三层协同模式，这是各类路线图能够高效推进、兼顾科学性与可行性的核心保障，也是它们的核心共同点。决策层均承担顶层设计与方向把控职能，明确技术演进的核心目标与整体路径。执行层负责将顶层规划拆解为具体技术任务，推进技术路径论证与落地。协调层则聚焦跨主体、跨领域协同，保障各环节顺畅衔接，提升整体运行效率。但由于路线图的定位、主导主体不同，各类路线图在组织架构的具体设置、参与范围与运行机制上存在显著差异，其中以IRDS的全球化架构最为典型，韩国、欧洲NEREID等区域型路线图则呈现鲜明的区域化、政府主导特征。

（三）编制流程

全球主流半导体技术路线图的编制基本遵循从调研摸底、研讨共识、论证完善到迭代优化的核心流程，这是保障路线图科学性、前瞻性与可行性的基础，也是各类路线图编制流程的核心共同点。编制初期，均通过全行业调研、企业走访、科研交流等多种形式，全面梳理产业发展现状、精准分析核心技术瓶颈与市场实际需求，锁定路线图核心编制方向。随后围绕各细分技术领域开展多形式研讨，通过线上线下结合的渠道推动相关专家充分争辩、凝聚行业共识，形成技术发展目标、具体演进路径及关键时间节点等核心内容。经核心专家团队多轮反复论证、修改完善后，正式发布路线图成果。同时建立常态化迭代机制，结合技术突破、产业格局调整与市场需求变化，动态优化路线图内容，及时更新技术路径、补充新兴技术领域、剔除已实现的指标，确保路线图始终贴合产业发展实际。但由于路线图的定位、主导主体及覆盖范围不同，各类路线图在编制流程的细节和实施方式上存在显著差异，其中IRDS的编制流程最具全球化、规范化特征，细节最为完善。

（四）企业贡献

无论是全球通用型集成电路技术路线图还是区域型路线图，企业均作为核心参与主体，贯穿路线图编制全流程。其中，英特尔、台积电、三星等龙头企业，凭借深厚的技术积累与丰富的产业化经验，深度参与路线图制定的每一个环节，主导关键议题研讨、提供核心技术参数、开展技术可行性分析，为路线图的科学性提供坚实的产业实践依据。各细分领域中小企业则依托自身在垂直领域的技术优势与敏锐的市场敏感度，补充差异化视角，针对行业研发痛点与终端应用需求提出专业建议，有效弥补龙头企业的视角盲区。同时，各类企业主动开放研发数据、共享产业实践经验，为路线图的技术指标制定、演进路径设计提供真实、可靠的产业数据支撑，推动技术蓝图转化为可落地、可执行的产业行动指南。但由于路线图的定位、覆盖范围不同，各类路线图中企业的贡献主体、贡献重点与参与程度存在显著差异，其中IRDS的企业贡献最具全球化、多元化特征，细节最丰富、数据支撑最充足。

二、对我国开展集成电路技术路线图编制的启示和建议

受美国持续技术制裁与出口管制影响，我国集成电路产业无法照搬IRDS等国际主流技术路线图的推进节奏，核心技术获取受限。面向未来10—20年产业发展趋势，中国版集成电路技术路线图需立足国情、自主谋划，适度借鉴IRDS协同治理模式，摒弃盲目对标与过度聚焦短期攻关的思路。以“国家统筹、联合牵头、前瞻布局、协同共识”为核心原则，重点强化国内外前沿技术动态跟踪、国内创新方向系统布局，同步关注重大学术突破与工程化进展，构建适配本土产业实际与制裁环境且兼具前瞻性的系统化落地路径，助力产业实现长期高质量发展。

组织机制上，弱化IRDS分级架构的简单套用，结合我国新型举国体制优势适配未来10—20年发展需求。国家统筹层面，聚焦前瞻战略定调，统筹资源向长期创新布局倾斜。专业执行层面，设立各领域专项工作组与前沿技术跟踪组，重点跟踪全球集成电路前沿技术研发动态，研判国内创新布局重点方向，梳理重大学术突破与工程化进展，推动跨领域技术路线共识形成。监督反馈层面，强化对技术前瞻布局合理性的评估，以及在供应链约束条件下的可行性评估，同步参与关键创新团队的识别与培育。协同聚焦前沿技术跟踪和本土创新协同，确保路线图既不全面落后于国际技术趋势，又能锚定我国长期自主创新发展目标。

参与主体上，重点强化领域资深院士和专家、知名院校与行业头部企业的联合牵头作用。由领域资深院士牵头研判集成电路前沿技术方向、关键里程碑及时间节点，梳理学术突破。知名高校与科研院所（如清华、北大、中国科学院微电子所）聚焦未来10—20年创新方向布局、产出重大学术成果，为里程碑设定与时间点研判提供理论支撑。头部企业主导学术突破的工程化转化，跟踪行业工程进展，精准研判研发、风险试产、量产各阶段时间节点适配性。通过三方协同牵头，广泛联动各方主体梳理技术发展脉络、凝聚技术路线共识，重点识别在前沿领域具有潜力的关键创新团队。同时依托行业协会整合创新资源、汇总技术进展，健全激励机制，激发各方参与前瞻布局与共识形成的积极性。

编制流程上，贴合未来10—20年技术发展趋势，适度借鉴IRDS模式、弱化短期攻关导向。前期聚焦国内外前沿技术动态全面跟踪、国内创新方向系统梳理，汇总重大学术突破与工程化进展，初步研判前沿技术关键里程碑及各阶段时间点。中期结合制裁环境与本土优势，研判长期创新布局重点，梳理不同领域技术发展路径，组织联合牵头主体与关键团队开展研讨，明确各前沿技术的关键里程碑以及研发－风险试产－量产关键时间点，形成技术路线共识。后期召开产业与学术共识大会，协调技术方向、里程碑及时间点研判的分歧，对接国家长期发展政策并公开征求意见。建议每年在北京、上海、广东等国内集成电路先进地区集聚路线图主要参与主体，发布年度版中国集成电路技术路线图，重点更新前沿技术动态、重大学术与工程进展及行业技术共识，同步优化关键技术里程碑、各阶段时间点研判及关键创新团队识别培育方案。依托先进区域的产业与科研集聚优势，搭建本土前沿技术跟踪与共识交流平台，为全国集成电路技术创新与路线布局提供支撑。

保障与风控上，紧扣未来10—20年发展目标与制裁背景，聚焦长期创新布局与突破，强化政策、人才等支撑，同时健全激励机制、强化关键信息的隔离与保护。政策保障方面，深度衔接现有国家重点科研计划、国家自然科学基金以及相关攻关专项布局，将路线图明确的前沿创新方向、关键里程碑节点纳入相关计划和专项资助范围，建立路线图与国家科研计划的动态联动机制，破除创新体制机制障碍。人才与团队激励方面，针对参与技术路线图制定的人才及关键创新团队，建立多层次激励体系，将参与贡献与职称评定、项目申报、研发补贴直接挂钩，同时积极吸引海外高端人才回国参与路线图制定与创新布局。风控方面，路线图对外公开采用“核心内容保密、通用内容公开”的模式，不对外披露全部技术细节，防范关键技术信息泄漏，同时建立信息保密审查机制，明确保密责任，保障路线图始终贴合未来产业发展趋势，为我国集成电路产业长期创新发展提供坚实支撑。

本文完整内容将于《电子技术应用》杂志2026年第9期或2026年第10期刊发。

作者介绍

朱 晶

研究员、高级经济师、咨询工程师（投资）

兼任北京半导体行业协会执行秘书长，国家部委及北京市相关委办局入库专家，具有超过10年的集成电路、新一代信息技术等领域研究经验，发表相关论文超过20篇，多次牵头负责国家及北京市集成电路领域重大战略项目方案制定、投资项目评审及产业发展规划编制等工作。

赵佳菲

高级经济师、咨询工程师（投资）

兼任北京半导体行业协会秘书长，国家部委及北京市相关委办局入库专家，具有超过10年的电子信息领域工程咨询工作经验，多次牵头负责国家及北京市电子信息领域重大战略项目方案制定、投资项目评审及产业发展研究等工作。

编辑：张　华 

审核：赵佳菲